このコーナーでは、毎回ひとつの質問を取り上げ、回答していきます。
今回は、半導体ウェハー洗浄プロセスの設備担当の方からの質問です。

枚葉プロセスでの圧力変動時、ベローズポンプの吐出圧が安定せず困っています。

半導体ウェハー洗浄プロセスの設備担当をしております。現在、枚葉でウェハー洗浄を行っています。
今まで使用しているベローズポンプは、各洗浄ノズル切り換え時の圧力変動に対する追従性が良くありません。そのため吐出圧が安定せず、洗浄効果にバラツキができて困っています。何か良い対処方法はないものでしょうか。

ダンパー不要で低脈動運転を実現した
「低脈動ベローズポンプ FLP-60W」をおすすめします!

ご質問、ありがとうございます。ご事情、お察しいたします。
このようなケースには、イワキの「低脈動ベローズポンプ FLP-60W」をおすすめしています!ダンパーを使用している限り、追従性を良くすることは難しいと思います。
その点、独特のメカニズムによりダンパー不要で低脈動運転が可能な「低脈動ベローズポンプ FLP-60W」であれば、高い負荷追従性が得られます。そのため吐出量、吐出圧の安定した運転が実現するのです。
また往復動ポンプ特有の慣性抵抗が少ないため、既存ポンプより吐出量と吐出圧がアップします(当社比)。

以上の理由から、「低脈動エアー駆動ベローズポンプ FLP-60W」が枚葉プロセスでの圧力変動問題をスッキリ解決できると考えます。ぜひ、この機会にご検討ください。

枚葉プロセスに適した優れた負荷追従性による安定した運転を実現します
エアー駆動低脈動ベローズポンプ FLPシリーズ
PULSERASER
• ダンパー不要で低脈動・省スペースを実現
• ベローズ溶接構造によって液洩れを防止しした安全設計
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