クリーン状態が必須条件の半導体・液晶プロセスにおいて、パーティクルやコンタミネーションの発生・混入はあってはいけません。イワキはこのような繊細なプロセスに要求される、超純水や薬液の移送制御技術に、絶対的な自信があります。
薬液移送用途から各種処理用途まで、お客様の多種多様な要望に豊富な経験とノウハウでお応えしていきます。

半導体・液晶分野に求められる課題を解決

パーティクル
薬液移送時のパーティクルの発生が少ない構造。超クリーンな製造プロセスに貢献します。
コンタミネーション
大流量ポンプにより、ウェハー表面の金属・有機汚染物の除去効率が向上します。
高温液移送
最高耐久液温180度。CARO(SPM)H3PO4 等の高温液移送が必要な薬液に対応します。
高圧移送
供給エアー圧力、最大0.7MPaのポンプを用意。高圧吐出が必要な各種プロセスに対応します。
耐久性
心臓部のベローズは定評のあるR形ベローズを採用。高圧吐出に耐え長寿命です。
ダウンタイムの短縮
メンテナンス性の高い構造で、スタッドボルトの定期的増締めが不要。ダウンタイムを縮小します。

活用分野

  • 薬液供給プロセス
    ポンプコントローラが流量・圧力を一定に制御。安定した薬液供給を行ないます。
    薬液供給プロセス
  • 洗浄プロセス
    独自に開発したコンタミフリー構造が、パーティクルの発生を最小限に抑えます。
    洗浄プロセス
  • フォトプロセス
    ステッピングモータ駆動により、再現性±0.3%(F.S.)以下の高精度を実現します。
    フォトプロセス
  • CMPプロセス
    高圧吐出が可能なイワキのベローズポンプは、CMPスラリーも問題なく移送可能です。
    CMPプロセス

製品に関する情報

カタログ、資料ダウンロード

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イワキのサポート
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