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分野別ソリューション / 半導体・液晶分野
分野別ソリューション / 半導体・液晶分野
半導体ウェハー洗浄プロセスの設備担当の方から寄せられたご質問です。
半導体ウェハー洗浄プロセスの設備担当をしております。現在、枚葉でウェハー洗浄を行っています。
今まで使用しているベローズポンプは、各洗浄ノズル切り換え時の圧力変動に対する追従性が良くありません。そのため吐出圧が安定せず、洗浄効果にバラツキができて困っています。
何か良い対処方法はないものでしょうか。
「低脈動ベローズポンプ FLP-60W」をおすすめします。
独特のメカニズムによりダンパー不要で低脈動運転が可能な「低脈動ベローズポンプ FLP-60W」であれば、高い負荷追従性が得られます。そのため吐出量、吐出圧の安定した運転が実現されます。
また往復動ポンプ特有の慣性抵抗が少ないため、既存ポンプより吐出量と吐出圧がアップします（当社比）。
ぜひ、この機会にご検討ください。
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